ASML et TSMC visent une ligne pilote de photomasques de 12 pouces d’ici 2031
L’initiative vise un format de masque plus grand pour la lithographie High NA EUV
Période de l’événement / des données: 2026-09-07
Publié: · Mis à jour:
ASML et TSMC ont annoncé avoir créé le 7 septembre une initiative sectorielle pour soutenir le passage aux photomasques de 12 pouces. L’industrie des semi-conducteurs utilise depuis longtemps des masques de 6 pouces ; les partenaires estiment qu’un format plus grand pourrait faciliter l’usage de la lithographie High NA EUV.
Les sociétés visent une ligne pilote de masques de 12 pouces d’ici 2031 et la préparation de systèmes lithographiques à la production de nœuds avancés d’ici 2033. Il s’agit d’objectifs sectoriels des partenaires, pas d’une ligne de production néerlandaise ni d’une capacité déjà achevée.
Données
Initiative ASML-TSMC sur les photomasques de 12 pouces, étapes annoncées
Objectifs des entreprises pour une initiative sectorielle ; la ligne pilote et la préparation des systèmes restent à venir
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
Méthodologie
Objectifs de l’annonce ASML-TSMC de septembre 2026 pour une initiative mondiale ; il s’agit d’étapes futures.
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Sujets et lieux
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- Science et technologieProposé
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