ASML ve TSMC, 12 inç fotomaske pilot hattını 2031’e kadar hedefliyor
Girişim, High NA EUV için daha büyük maske formatına geçişi amaçlıyor
Olay / veri dönemi: 2026-09-07
Yayın: · Güncelleme:
ASML ve TSMC, 7 Eylül’de yarı iletken sektöründe 12 inç fotomaske formatına geçişi desteklemek üzere şirketler arası bir girişim oluşturduklarını açıkladı. Mevcut endüstri formatı 6 inç maskelere dayanıyor; girişim daha büyük maskelerin High NA EUV kullanımını desteklemesini hedefliyor.
Şirketler, 12 inç maske pilot hattını 2031’e kadar kurmayı ve ileri üretim için litografi sistemi hazırlığını 2033’e kadar sağlamayı hedefliyor. Bu tarihler bir Hollanda üretim hattı veya tamamlanmış kapasite değil, ortakların sektör düzeyindeki hedefleridir.
Veriler
ASML-TSMC'nin 12 inç fotomaske girişimi için duyurduğu kilometre taşları
Sektör girişimi için şirket hedefleri; pilot hattı ve sistem hazırlığı geleceğe yönelik kilometre taşlarıdır.
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
Yöntem
Eylül 2026'da duyurulan küresel yarı iletken sektörü girişiminin şirket hedefleri; belirtilen tarihler gelecekteki kilometre taşlarıdır.
Güncelleme:
Konular ve yerler
Konu önerileri
- Bilim ve teknolojiÖneri
- Preserved editorial category/topic; broad candidate onlyinvestor.asml.com ↗
Coğrafi referanslar
Yalnızca kaynakta bulunan coğrafi referanslar gösterilir. Harici haritayı açmak isteğe bağlıdır. İsteğe bağlı haber haritaları OpenStreetMap kullanır. Haritayı açtığınızda IP adresiniz ve site adresi harita sağlayıcısına iletilir; harita yüklenmeden konum verileri metin olarak okunabilir.
- Hollanda · Yer rolü: Kapsam · Yer türü: Ülke veya bölge · Konum kesinliği: BölgeselKanıt
- Explicit preserved editorial country/region; no city or national centroid inferredinvestor.asml.com ↗