ASML e TSMC apontam para linha-piloto de fotomáscaras de 12 polegadas até 2031
A iniciativa procura um formato de máscara maior para litografia High NA EUV
Período do evento/dos dados: 2026-09-07
Publicado: · Atualizado:
A ASML e a TSMC disseram ter criado, em 7 de setembro, uma iniciativa industrial para apoiar a transição para fotomáscaras de 12 polegadas. A indústria de semicondutores utiliza há muito máscaras de 6 polegadas; os parceiros afirmam que o formato maior poderá apoiar a litografia High NA EUV.
As empresas apontam para uma linha-piloto de máscaras de 12 polegadas até 2031 e para a prontidão de sistemas litográficos para produção de nós avançados até 2033. São metas dos parceiros para o setor, não uma linha de produção neerlandesa nem capacidade já concluída.
Dados
Iniciativa da ASML e TSMC para fotomáscaras de 12 polegadas, marcos anunciados
Metas empresariais de uma iniciativa industrial; a linha-piloto e a prontidão dos sistemas são marcos futuros
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
Metodologia
Metas do anúncio da ASML e TSMC de setembro de 2026 para uma iniciativa global; são marcos futuros.
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