ASML und TSMC planen Pilotlinie für 12-Zoll-Photomasken bis 2031
Die Initiative zielt auf ein größeres Maskenformat für High-NA-EUV-Lithografie
Ereignis-/Datenzeitraum: 2026-09-07
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ASML und TSMC erklärten, am 7. September eine Brancheninitiative für den Übergang zu 12-Zoll-Photomasken gegründet zu haben. Die Halbleiterindustrie nutzt seit Langem 6-Zoll-Masken; nach Angaben der Partner könnte ein größeres Format den Einsatz der High-NA-EUV-Lithografie unterstützen.
Die Unternehmen streben eine Pilotlinie für 12-Zoll-Masken bis 2031 und die Bereitschaft von Lithografiesystemen für die Fertigung fortgeschrittener Prozessknoten bis 2033 an. Dies sind branchenweite Ziele der Partner, keine niederländische Produktionslinie oder bereits vorhandene Kapazität.
Daten
ASML-TSMC-Initiative zu 12-Zoll-Photomasken, angekündigte Meilensteine
Unternehmensziele einer Brancheninitiative; Pilotlinie und Systembereitschaft sind künftige Meilensteine
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
Methodik
Ziele aus der ASML-TSMC-Ankündigung vom September 2026 für eine globale Brancheninitiative; künftige Meilensteine.
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