ASML وTSMC تستهدفان خطاً تجريبياً لأقنعة ضوئية بقياس 12 بوصة بحلول 2031
المبادرة تسعى إلى صيغة أكبر للأقنعة المستخدمة في الطباعة بتقنية High NA EUV
فترة الحدث / البيانات: 2026-09-07
نُشر: · آخر تحديث:
قالت ASML وTSMC إنهما أنشأتا في 7 سبتمبر مبادرة صناعية لدعم الانتقال إلى أقنعة ضوئية بقياس 12 بوصة. واعتمدت صناعة أشباه الموصلات طويلاً أقنعة بقياس 6 بوصات؛ ويقول الشريكان إن الصيغة الأكبر قد تدعم استخدام تقنية High NA EUV.
تستهدف الشركتان إنشاء خط تجريبي للأقنعة بقياس 12 بوصة بحلول 2031 وجاهزية أنظمة الطباعة للإنتاج بالعقد المتقدمة بحلول 2033. وهذه أهداف للشركاء على مستوى الصناعة، وليست خط إنتاج هولندياً أو قدرة مكتملة.
البيانات
مبادرة ASML وTSMC للأقنعة بقياس 12 بوصة، معالم معلنة
أهداف شركات لمبادرة صناعية؛ فالخط التجريبي وجاهزية الأنظمة معالم مستقبلية
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
المنهجية
أهداف إعلان ASML وTSMC في سبتمبر 2026 لمبادرة صناعية عالمية؛ وهي معالم مستقبلية.
آخر تحديث:
الموضوعات والأماكن
اقتراحات الموضوعات
- علوم وتكنولوجيامقترح
- Preserved editorial category/topic; broad candidate onlyinvestor.asml.com ↗
المراجع الجغرافية
تُعرض المراجع الجغرافية الواردة في المصدر فقط. فتح الخريطة الخارجية اختياري. تستخدم خرائط الأخبار الاختيارية OpenStreetMap. يرسل فتح الخريطة عنوان IP وعنوان هذا الموقع إلى مزود الخرائط؛ وتظل بيانات الموقع مقروءة كنص دون تحميل الخريطة.
- هولندا · دور المكان: تغطية · نوع المكان: بلد أو منطقة · دقة الموقع: إقليميالدليل
- Explicit preserved editorial country/region; no city or national centroid inferredinvestor.asml.com ↗