ASML y TSMC prevén una línea piloto de fotomáscaras de 12 pulgadas para 2031
La iniciativa busca un formato de máscara mayor para litografía High NA EUV
Período del evento / de los datos: 2026-09-07
Publicado: · Actualizado:
ASML y TSMC anunciaron que el 7 de septiembre crearon una iniciativa sectorial para impulsar la transición a fotomáscaras de 12 pulgadas. La industria de semiconductores ha utilizado durante mucho tiempo máscaras de 6 pulgadas; los socios afirman que el formato mayor podría respaldar la litografía High NA EUV.
Las compañías prevén una línea piloto de máscaras de 12 pulgadas para 2031 y sistemas litográficos listos para producir nodos avanzados en 2033. Son objetivos de los socios para el sector, no una línea de producción neerlandesa ni capacidad ya completada.
Datos
Iniciativa de ASML y TSMC para fotomáscaras de 12 pulgadas, hitos anunciados
Objetivos empresariales de una iniciativa sectorial; la línea piloto y la preparación de sistemas son hitos futuros
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |
Metodología
Objetivos del anuncio de ASML y TSMC de septiembre de 2026 para una iniciativa mundial; son hitos futuros.
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