# ASML ve TSMC, 12 inç fotomaske pilot hattını 2031’e kadar hedefliyor

> Girişim, High NA EUV için daha büyük maske formatına geçişi amaçlıyor

- Kalıcı adres: https://newsverum.com/tr/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031
- Yayıncı: Newsverum
- Bölüm: Teknoloji
- Ülke: Hollanda
- Yayın: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- Güncelleme: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- Olay / veri dönemi: 2026-09-07
- Diğer sürümler: [English](https://newsverum.com/en/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [العربية](https://newsverum.com/ar/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Français](https://newsverum.com/fr/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Español](https://newsverum.com/es/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Deutsch](https://newsverum.com/de/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Português](https://newsverum.com/pt/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md)

ASML ve TSMC, 7 Eylül’de yarı iletken sektöründe 12 inç fotomaske formatına geçişi desteklemek üzere şirketler arası bir girişim oluşturduklarını açıkladı. Mevcut endüstri formatı 6 inç maskelere dayanıyor; girişim daha büyük maskelerin High NA EUV kullanımını desteklemesini hedefliyor.

Şirketler, 12 inç maske pilot hattını 2031’e kadar kurmayı ve ileri üretim için litografi sistemi hazırlığını 2033’e kadar sağlamayı hedefliyor. Bu tarihler bir Hollanda üretim hattı veya tamamlanmış kapasite değil, ortakların sektör düzeyindeki hedefleridir.

## Veriler

### ASML-TSMC'nin 12 inç fotomaske girişimi için duyurduğu kilometre taşları

Sektör girişimi için şirket hedefleri; pilot hattı ve sistem hazırlığı geleceğe yönelik kilometre taşlarıdır.

Yöntem: Eylül 2026'da duyurulan küresel yarı iletken sektörü girişiminin şirket hedefleri; belirtilen tarihler gelecekteki kilometre taşlarıdır.

| Kilometre taşı | Duyurulan hedef |
|---|---|
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |

Kaynaklar: <https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv> · Veriyi indir: [JSON](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=tr&format=json) · [CSV](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=tr&format=csv)

## Kaynaklar

- [ASML Holding N.V. and Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC)](<https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv>) (Kaynak kontrolü: 2026-10-07; Yayın: 2026-09-08)

---

Alıntı için yukarıdaki kalıcı adresi kullanın. [Yayın ilkeleri ve düzeltmeler](https://newsverum.com/tr/editorial)