# ASML e TSMC apontam para linha-piloto de fotomáscaras de 12 polegadas até 2031

> A iniciativa procura um formato de máscara maior para litografia High NA EUV

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- Editora: Newsverum
- Seção: Tecnologia
- País: Países Baixos
- Publicado: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- Atualizado: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- Período do evento ou dos dados: 2026-09-07
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A ASML e a TSMC disseram ter criado, em 7 de setembro, uma iniciativa industrial para apoiar a transição para fotomáscaras de 12 polegadas. A indústria de semicondutores utiliza há muito máscaras de 6 polegadas; os parceiros afirmam que o formato maior poderá apoiar a litografia High NA EUV.

As empresas apontam para uma linha-piloto de máscaras de 12 polegadas até 2031 e para a prontidão de sistemas litográficos para produção de nós avançados até 2033. São metas dos parceiros para o setor, não uma linha de produção neerlandesa nem capacidade já concluída.

## Dados

### Iniciativa da ASML e TSMC para fotomáscaras de 12 polegadas, marcos anunciados

Metas empresariais de uma iniciativa industrial; a linha-piloto e a prontidão dos sistemas são marcos futuros

Metodologia: Metas do anúncio da ASML e TSMC de setembro de 2026 para uma iniciativa global; são marcos futuros.

| Marco | Meta anunciada |
|---|---|
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |

Fontes: <https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv> · Baixar dados: [JSON](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=pt&format=json) · [CSV](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=pt&format=csv)

## Fontes

- [ASML Holding N.V. and Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC)](<https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv>) (Fonte verificada: 2026-10-07; Publicado: 2026-09-08)

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