# ASML وTSMC تستهدفان خطاً تجريبياً لأقنعة ضوئية بقياس 12 بوصة بحلول 2031

> المبادرة تسعى إلى صيغة أكبر للأقنعة المستخدمة في الطباعة بتقنية High NA EUV

- الرابط الدائم: https://newsverum.com/ar/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031
- الناشر: Newsverum
- القسم: التكنولوجيا
- البلد: هولندا
- نُشر: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- آخر تحديث: 2026-10-07T21:41:38+00:00
- فترة الحدث / البيانات: 2026-09-07
- النسخ الأخرى: [Türkçe](https://newsverum.com/tr/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [English](https://newsverum.com/en/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Français](https://newsverum.com/fr/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Español](https://newsverum.com/es/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Deutsch](https://newsverum.com/de/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md), [Português](https://newsverum.com/pt/news/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031.md)

قالت ASML وTSMC إنهما أنشأتا في 7 سبتمبر مبادرة صناعية لدعم الانتقال إلى أقنعة ضوئية بقياس 12 بوصة. واعتمدت صناعة أشباه الموصلات طويلاً أقنعة بقياس 6 بوصات؛ ويقول الشريكان إن الصيغة الأكبر قد تدعم استخدام تقنية High NA EUV.

تستهدف الشركتان إنشاء خط تجريبي للأقنعة بقياس 12 بوصة بحلول 2031 وجاهزية أنظمة الطباعة للإنتاج بالعقد المتقدمة بحلول 2033. وهذه أهداف للشركاء على مستوى الصناعة، وليست خط إنتاج هولندياً أو قدرة مكتملة.

## البيانات

### مبادرة ASML وTSMC للأقنعة بقياس 12 بوصة، معالم معلنة

أهداف شركات لمبادرة صناعية؛ فالخط التجريبي وجاهزية الأنظمة معالم مستقبلية

المنهجية: أهداف إعلان ASML وTSMC في سبتمبر 2026 لمبادرة صناعية عالمية؛ وهي معالم مستقبلية.

| المعلم | الهدف المعلن |
|---|---|
| 12-inch photomask pilot line | Targeted by 2031 |
| Lithography system readiness for advanced-node production | Targeted by 2033 |

المصادر: <https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv> · تنزيل البيانات: [JSON](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=ar&format=json) · [CSV](https://newsverum.com/api/v1/articles/asml-tsmc-industry-initiative-targets-12-inch-photomask-pilot-by-2031/data/reported-figures?lang=ar&format=csv)

## المصادر

- [ASML Holding N.V. and Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC)](<https://investor.asml.com/news-releases/news-release-details/asml-and-tsmc-announce-initiative-pioneer-industry-transition-large-format-photomasks-high-na-euv>) (تاريخ مراجعة المصدر: 2026-10-07; نُشر: 2026-09-08)

---

استخدم الرابط الدائم أعلاه عند الاقتباس. [معايير النشر والتصحيحات](https://newsverum.com/ar/editorial)